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光刻机概念29日盘中强势拉升,截止至发稿,蓝英配备、新莱应材、福晶科技等涨停,扬帆新材、强力新材、茂莱光学涨超10%。
光刻胶概念亦走强,容大感光涨超10%,上海新阳涨逾9%,南大光电、彤程新材等涨超6%。
容大感光近来在出资者互动渠道表明,公司的光刻胶产品有PCB光刻胶、显现用光刻胶、半导体用光刻胶等,公司PCB光刻胶所需原材料现已国产化,显现用及半导体光刻胶有部分原材料需求进口,若被约束收购,公司将运用代替计划确保供应链的安全。
公司现在正在建造珠海光刻胶及其配套化学品新建项目,估计项目达产后将会新增1.2亿平米感光干膜及1.53万吨显现用光刻胶/半导体光刻胶的产能,能够缓解现在公司产能的压力,该项意图建造完结及投产对公司的开展将具有久远的积极意义。
彤程新材日前表明,ARF光刻胶验证开展顺畅,估计本年上半年完结验证并出货。
南大光电近来称,公司多款光刻胶产品正在下流首要客户处验证。前期经过验证的产品有少数出货,没有构成规划量产。
关于光刻机,安全证券指出,光刻机是半导体制作的中心设备,其功能直接决议了芯片的工艺水平,开发难度大,价值量高,市场规划可观,现在市场干流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类;分辨率、套刻精度、产率是光刻机的中心目标,其间,分辨率直接决议制程,极致的分辨率水平是光刻机工业不懈的寻求,是光刻机最重要的目标,而套刻精度影响良率,产率影响光刻机的产能及经济性,此外,多重曝光技能可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程,使用较为广泛。
该组织表明,光刻机是半导体工业的中心设备,直接决议芯片制程的先进程度,重要性显而易见,在全球半导体工业继续扩张的趋势下,光刻机市场规划长时间可观;此外,光刻机开发难度大,工业垄断性强,是海外对华半导体制裁的重灾区,直接影响国内半导体工业先进制程的开展,因而光刻机自主打破的重要性尤为凸显,光刻机国产工业链颇具潜力,主张重视炬光科技、茂莱光学、晶方科技、福晶科技、波长光电、腾景科技等。
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