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中商情报网讯：光刻胶又称光致抗蚀剂，实质是一种感光材料，是电子范畴微细图形加工的关键性材料，在半导体、LCD、PCB等职业的生产中具有极端严重效果。近年来，跟着集成电路的加快速度进行开展，光刻胶职业景气量不断提高。
依照下流运用，光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶、PCB光刻胶，其间，半导体光刻胶首要运用在于半导体元器件制造中，商场占比22%。
按曝光波长分，半导体光刻胶依照曝光波长不同可分为g线nm）、i线nm）以及新鼓起的EUV光刻胶5大类，高端光刻胶指KrF、ArF和EUV光刻胶。多个方面数据显现，2021年ArFi+ArF光刻胶占全球光刻胶商场规模的份额为48.1%，KrF占比34.7%，G/I线%。
从竞赛格式来看，日本企业在半导体光刻胶商场占有主导地位，东京应化渣比最高达25%。其次，JSR、日本信越、住友化学占比分别为17%、16%、11%，Dow占比9%。
更多材料请参考中商工业研究院发布的《我国光刻胶未来商场开展的潜力及出资时机研究报告》，同时中商工业研究院还供给工业大数据、工业情报、职业研究报告、职业白皮书、商业计划书、可行性研究报告、园区工业规划、工业链招商图谱、工业招商指引、工业链招商调查&推介会等服务。
